原子层沉积（ALD）
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种基于自限制表面化学反应的先进薄膜沉积技术，可在原子尺度实现厚度精确可控、均匀性优异的三维保形薄膜。特别适用于锂电池、半导体、光伏等领域的高性能纳米涂层制备。
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